半導(dǎo)體在生產(chǎn)或者清洗時,需要使用到水,普通的水中常常含有微生物、金屬離子等雜質(zhì),這些雜質(zhì)會對半導(dǎo)體造成一定的影響,為了能夠去除這些雜質(zhì),達(dá)到處理半導(dǎo)體的目的,半導(dǎo)體制造商會使用到超純水設(shè)備,超純水設(shè)備能夠有效的去除水中的雜質(zhì),同時提供水的電阻率,是目前半導(dǎo)體中最受歡迎的一款設(shè)備。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備產(chǎn)水標(biāo)準(zhǔn):
半導(dǎo)體對水質(zhì)的要求非常高,水質(zhì)不能達(dá)到要求,就會對半導(dǎo)體的性能造成影響,所以半導(dǎo)體超純水設(shè)備的產(chǎn)水標(biāo)準(zhǔn)非常的嚴(yán)格,需要完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、中國電子工業(yè)部電子級水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn),如果不能滿足,就不能直接使用在半導(dǎo)體中。
半導(dǎo)體超純水設(shè)備的工藝:
半導(dǎo)體超純水設(shè)備的工藝流程主要有EDI超純水設(shè)備、二級RO反滲透、離子交換樹脂這三種:
EDI超純水設(shè)備:
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點(diǎn)
EDI模塊抗污染性較差,一般在EDI系統(tǒng)的前面加入過濾器、軟水機(jī)、反滲透等設(shè)備,讓EDI模塊的進(jìn)水能夠符合要求,這樣EDI模塊的產(chǎn)水一般能夠達(dá)到15-18兆歐左右。
二級ro反滲透設(shè)備:
原水加壓泵-多介質(zhì)過濾器-活性炭過濾器-軟水器-保安過濾器-第一級反滲透機(jī)-第二級反滲透機(jī)-儲水罐-純水輸送泵-用水點(diǎn)
二級反滲透設(shè)備則是在反滲透設(shè)備的基礎(chǔ)上增加了一道反滲透過濾程序。使用在半導(dǎo)體中的產(chǎn)水,使用一級反滲透是無法達(dá)到要求的,所以會在一級反滲透后面再加一道反滲透,使產(chǎn)水能夠達(dá)到半導(dǎo)體用水要求。
離子交換樹脂:
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點(diǎn)
離子交換樹脂設(shè)備主要是通過離子吸附的原理對水進(jìn)行處理,先使用陽離子交換樹脂將水中的陽離子進(jìn)行吸附,再通過陰離子交換樹脂吸附陰離子,最后使用混床拋光樹脂,提高產(chǎn)水的水質(zhì)、電阻率,使產(chǎn)水能夠滿足半導(dǎo)體用水的要求。
注意:這三種處理工藝可以根據(jù)用戶的進(jìn)水條件、產(chǎn)水要求進(jìn)行適當(dāng)?shù)恼{(diào)整,如果有這方面的需求,可以咨詢我們的客服了解詳情。
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