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隨著現(xiàn)在產(chǎn)品應(yīng)用越來(lái)越豐富，在追求功能的同時(shí)更加的注重產(chǎn)品外觀和實(shí)用性，電鍍噴涂行業(yè)近幾年越來(lái)越火爆，在設(shè)備表面進(jìn)行涂裝防腐蝕性涂層不僅可以讓設(shè)備的外觀提升，還能防腐蝕。但是電鍍涂裝對(duì)用水有著嚴(yán)苛的標(biāo)準(zhǔn)，電鍍涂裝純水必須要達(dá)到15兆歐以上的超純水才行。

關(guān)于電鍍涂裝超純水設(shè)備
為了更好的保護(hù)我們的設(shè)備避免被腐蝕或者是生銹，我們往往會(huì)選擇在設(shè)備的表面進(jìn)行涂裝一層具有防腐蝕或者是抗氧化的東西，同時(shí)為了增加我們的設(shè)備的光亮的程度我們還需要利用純水進(jìn)行清洗。今天純凈水設(shè)備就給大家介紹一種設(shè)備，該設(shè)備可以進(jìn)行節(jié)能生產(chǎn)以及設(shè)備的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單方便。

電鍍涂裝用純水設(shè)備工序有哪些？
原水→原水箱→原水泵→多介質(zhì)過(guò)濾器（石英砂過(guò)濾器）→活性炭過(guò)濾器→軟水處理器（添加阻垢劑裝置）→精密過(guò)濾器→高壓泵→反滲透（RO）裝置→純凈水箱→EDI模塊（拋光樹(shù)脂）→純水箱→用水點(diǎn)。

電鍍涂裝超純水設(shè)備產(chǎn)水標(biāo)準(zhǔn)：
電鍍涂裝超純水設(shè)備的電阻率可以到達(dá)15兆以上的超純水，在進(jìn)行鍍件漂洗時(shí)需要的是電阻率15兆以下的純水節(jié)約可生產(chǎn)的成本。該設(shè)備是采用的最為傳統(tǒng)的陰陽(yáng)混床樹(shù)脂交換，純水的電阻率不是最高的雙級(jí)反滲透設(shè)備，設(shè)備中的原水為泵提供水的壓力值，在經(jīng)過(guò)可以去除膠狀物和其它可見(jiàn)雜質(zhì)的多介質(zhì)過(guò)濾器之后通過(guò)可以吸附化學(xué)等的活性炭過(guò)濾器，最后在經(jīng)過(guò)軟水器軟化水質(zhì)和精密過(guò)濾器的高精過(guò)濾。

電鍍涂裝超純水設(shè)備優(yōu)點(diǎn)有哪些？
電鍍涂裝超純水設(shè)備的出水的阻電率高達(dá)18兆，可以用于任何的需要用到純水的行業(yè)中。該設(shè)備和傳統(tǒng)的混床設(shè)備相比較的話具有較明顯的優(yōu)勢(shì)。設(shè)備在制取純水的過(guò)程中可以很好的避免產(chǎn)生廢液，為企業(yè)節(jié)省成本。

電鍍涂裝純水設(shè)備工作原理
EDI工藝從水中去除不想要的離子，依靠在淡水室的樹(shù)脂吸附離子，然后將它們遷移到濃水室中。
離子交換反應(yīng)在模塊的淡水室中進(jìn)行，在那里陰離子交換樹(shù)脂釋放出氫氧根離子（OH-）而從溶解鹽（如氯化物、Cl-）中交換陰離子。同樣，陽(yáng)離子交換樹(shù)脂釋放出氫離子（H+）而從溶解鹽中(如鈉、Na+)交換陽(yáng)離子。
從水流中去除離子的吸附步驟，在模塊中的停留是有限的（近似10~15秒）。當(dāng)被吸附時(shí)，離子僅僅被外在的直流電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)遷移。
一個(gè)直流（DC）電場(chǎng)通過(guò)放置在組件一端的陽(yáng)極（+）和陰極（-）實(shí)現(xiàn)。電壓驅(qū)動(dòng)這些被吸收的離子沿著樹(shù)脂球的表面移動(dòng)，然后穿過(guò)離子選擇性膜進(jìn)入濃水室。直流電場(chǎng)也裂解水分子形成氫氧根離子和氫離子：
H2O=OH-+H+
在圖1中，離子交換膜由垂直線表示，這些垂直線根據(jù)離子穿透性的不同標(biāo)注成不同的幾項(xiàng)。因?yàn)檫@些離子選擇性膜不允許水穿過(guò)，所以他們對(duì)水流來(lái)說(shuō)是個(gè)屏障。
帶負(fù)電的陰離子（如OH-、Cl-）被吸引到陽(yáng)極（+）,并且被陰極排斥。這些離子穿過(guò)陰離子選擇性膜，進(jìn)入相鄰的濃水室，而不會(huì)穿過(guò)相鄰的陽(yáng)離子選擇性膜，并滯留在濃水室，并隨濃水流出濃水室。在淡水室中帶正電的陽(yáng)離子（如H+、Na+）被吸引到陰極（-）,并且被陽(yáng)極排斥。這些離子穿過(guò)陽(yáng)離子選擇性膜進(jìn)入臨近的濃水室，他們?cè)谀抢锉慌R近的陰離子選擇性膜阻擋，并隨濃水流出濃水室。
在濃水室中，仍然維持電中性。從兩個(gè)方向輸送過(guò)來(lái)的離子彼此相互中和。從電源流過(guò)來(lái)的電流跟移動(dòng)離子的數(shù)目成比例。水裂解離子（H+和OH-）和現(xiàn)存的離子都被遷移并且被加到所要求的電流之中。
當(dāng)水流流過(guò)兩種不同類(lèi)型的腔體時(shí)，淡水室中的離子就會(huì)完全被去除，同時(shí)被收集到鄰近的濃水流之中，這就可以從模塊中帶走被去除了的離子。

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