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麥克尼斯MX-100型號的EDI模塊是麥克尼斯公司推出的產(chǎn)水量為1噸的EDI模塊產(chǎn)品，能夠連續(xù)穩(wěn)定對水質進行高純度制取。而且MX-100edi模塊不用化學藥劑進行再生，完全自動化對水質進行處理。而且不需要化學再生藥劑貯存罐及相應的中和池，而且無須對有害的化學物廢水進行收集、貯存及處理。使用EDI后能極大的簡化系統(tǒng)配置和使用場地。

MX-100EDI模塊參數(shù)

型號與規(guī)格	產(chǎn)水流量	回收率	產(chǎn)水電阻率	電壓	電流	外形尺寸
型號與規(guī)格	（m2/h）	（%）	（MQ.cm）	（DCV）	（DCA）	（長×高×寬）
MX-100	0.8-1.4	85-90	15-18	0-330	≤3.5	400×680×310

麥克尼斯EDI模塊MX-100進水條件
水源：（二級）反滲透RO產(chǎn)水，電導率1-10us/cm，最大電導率≤25us/cm（NaC1）
PH值：7.0-8.5（pH7.0-8.0之間EDI可有最佳電阻率性能）
溫度：15℃--35℃，（EDI最佳溫度在25℃）
進水壓力（Dw）：0.15-0.4MPa
濃水進水壓力（Cns）：比Ds端壓力低0.06-0.1MPa（必須）
產(chǎn)水壓力（Dour）：0.05-0.20MPa
濃水出水壓力（Cour）：比Dor端壓力低0.05-0.1MPa（必須）
進水硬度：<0.5ppm（碳酸鈣計）進水有機物：TOC<0.5ppm
進水氧化劑：C12（活性）<0.03ppm，0。（臭氧）<0.02ppm，Ho.（羥基氧）<0.02ppm
進水重金屬離子：Fe、Mn、變價性金屬離子<0.01ppm
進水硅：Si0?<0.5ppm（反滲透RO產(chǎn)水典型范圍是50-150ppb）
進水總CO2：<3ppm
進水顆粒度：<1um

膜堆性能

操作參考
回收率	90-95%
最大允許進水壓力	7bar（100psi）
最高允許進水溫度	45℃（113℉）
名義流量時的壓降范圍	1.4-2.1bar（20-30psi）
產(chǎn)水水質
產(chǎn)水電阻率	>16MΩ.cm（見下面說明）
*說明：實際性能可以用lonpure的IP-Pro設計軟件確定
硅（SiO，）去除率	90-99%取決于進水條件

MX-100型號EDI圖片：

麥克尼斯MX-100EDI模塊特點有哪些？
RO的應用降低了對大型設備場地占用的要求，MX-100EDI的技術應用則也完全地符合了這一點。由于EDI系統(tǒng)可以依據(jù)現(xiàn)場實際情況進行適配設計組合，保證設備廠房間內(nèi)無高罐（混床）存在。在要求成套設備能迅速地安裝起來并以投入運行時，采用膜法系統(tǒng)的設備在這方面有著極其不可忽略的優(yōu)勢。
還有一個特點是，MX-100EDI排出的濃水中僅含有進水中的雜質成分，通常這種水的水質比預處理系統(tǒng)的原水進水水質要好，故濃水可以考慮直接地回收送至RO的原水入水口，這樣就有效地消除了對廢水的排放。相反，混床的再生是一個一次性的過程，由于使用化學藥劑再生離子交換樹脂床，其廢液中含有比一般EDI濃水高3-4倍的廢棄離子，這類廢液通常不回收到預處理系統(tǒng)中，而是排放于廢水中和池內(nèi)。
EDI的運行過程是連續(xù)的，其生產(chǎn)的水質穩(wěn)定，它不象混床在每一個再生周期的開始及結束階段因離子的泄漏而影響出水水質。這種連續(xù)運行的方式也簡化了操作，無需再設置考慮因再生工作需要調(diào)整相關設備的操作人員及操作程序。
歸納為以下幾點：

電廠化學水處理
電子、半導體行業(yè)超純水
精密機械行業(yè)超純水
制藥工業(yè)工藝用水
實驗室研究用超純水
精細化工、精尖學科用水
其他行業(yè)所需的高純水制備

麥克尼斯MX-100EDI模塊組成部分有哪些？
EDI膜塊去除水中離子是通過內(nèi)置的離子交換樹脂進行的。其應用如下：（以Na+代表陽離子，以C1-代表陰離子）
由于受EDI膜塊內(nèi)離子交換樹脂填充容量的限制，離子交換樹脂在使用一段時間后會逐漸飽和，因此離子交換樹脂須再生后方可繼續(xù)使用
EDI膜塊是由數(shù)個濃水室、淡水室組合單元疊加構成的。
純水室-—-由在陰、陽離子交換膜片之間填充混合樹脂，用以制造純水的的工作夾層稱為純水室
濃水室-—-兩個純水室相連之間由陰、陽離子交換膜片組成的，用以收集濃水的工作夾層稱為濃水室
電極板-—-用于在膜塊運行中產(chǎn)生電場作用的通電導板，稱為電極板。通常分為正極和負極，位于膜塊的兩端。

麥克尼斯MX-100EDI模塊應用領域有哪些？
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水。
3、單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。
4、食品工業(yè)用水:飲用純凈水、礦泉水、資料、啤酒、乳業(yè)等。
5、海水、苦咸水淡化：海島、艦船、高鹽堿地區(qū)生活用水改善。
6、樓宇、社區(qū)優(yōu)質供水:星級賓館、機場、房產(chǎn)物業(yè)純水網(wǎng)絡系統(tǒng)等。
7、化工行業(yè)工藝用水：化工冷卻、化肥、化學藥劑制造。
8、工業(yè)產(chǎn)品制造用水：汽車、家電涂裝、涂料、油漆、精細加工清洗等。
9、電力行業(yè)鍋爐補給水:熱力、火力發(fā)電鍋爐、中、低壓鍋爐動力系統(tǒng)精細化工、精尖學科用水。

麥克尼斯MX-100EDI模塊有哪些產(chǎn)品保障？
膜塊的質量保證
材料和制造工藝的保證
麥克尼斯Micronix公司保證所有提供的EDI膜塊在制造中使用的材料和工藝都是符合國家環(huán)保要求的。
質量保證期
麥克尼斯MICRONIX公司保證所有提供的EDI膜塊質保期為3年，倉儲時間不能超過10個月
質量保證條件
對于有下列條件之一者，質保承諾將會無效
膜塊的進水條件不符合規(guī)定的進水條件要求
進水濁度大于1NTUO進水SDI大于1.0
水中含有對離子膜有害的有機物或無機物
進水溫度大于100F/38℃
在運行過程中pH值小于6或者大于9
在運行過程中，工作壓力超過0.5MPa
在任何過程中有接觸氯、臭氧、高錳酸鉀及強氧化劑
在膜塊清洗時，不得有發(fā)現(xiàn)顆粒物質、淤泥沉淀物或微生物被清洗出來
EDI端板電極不能發(fā)現(xiàn)有因電壓或電流超過規(guī)定數(shù)值而引起的表面燒損跡象

藍膜專注于環(huán)保水處理產(chǎn)品與服務的創(chuàng)新與整合，經(jīng)營產(chǎn)品包括工業(yè)超純水設備、過濾器、濾膜、水處理樹脂及行業(yè)解決方案等。具有完整的環(huán)保水處理系統(tǒng)集成和全面的技術服務綜合能力，并提供7*24小時的優(yōu)質服務。
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麥克尼斯MX-100 EDI模塊